Přejít k obsahu | Přejít k hlavnímu menu | Přejít k vyhledávání

English

Depozice tenkých vrstev a nanostruktur

Výzkumná skupina Ústavu fyziky a technologií plazmatu

Publikace

Souhrn akademických publikací pocházejících z laboratoře PVD technologií

K. Bernátová, M. Fekete, P. Klein, J. Hnilica, P. Vašina

Ionisation fractions of sputtered titanium species at target and substrate region in HiPIMS

V tomto článku byly určeny koncentrace atomů a iontů titanu v základním stavu, a také ionizační stupeň. Ke stanovení koncentrací rozprášených částic byla použita metoda efektivních větvících poměrů. Nejvyššího, 90 % ionizačního stupně bylo dosaženo v oblasti u magnetronového terče pro střídu 1,2 %. V oblasti u substrátu pro střídu nižší než 2 % dosáhl ionizační stupeň rozprášených částic vždy alespoň 50 %.

Plasma Sources Science and Technology 29 (2020) 055010

M. Kroker, P. Souček, M. Šlapanská, V. Sochora, M. Jílek, P. Vašina

Predicting the composition of W-B-C coatings sputtered from industrial cylindrical segmented target

Tato práce představuje postup, jak předpovědět chemické složení a rychlosti depozice tenkých vrstev. Simulované chemické složení a relativní rychlost depozice byly ověřeny a validovány experimenty. Chemické složení povlaků bylo korelováno s umístěním jednotlivých segmentů terče a byl diskutován vliv pohybu substrátu na chemické složení povlaků. Simulace odhalily odlišné trajektorie těžkých a lehkých částic.

Surface and Coatings Technology 438 (2022) 128411

M. Šlapanská, M. Kroker, P. Klein, J. Hnilica, P. Vašina

Spatially resolved study of spokes in reactive HiPIMS discharge

Tento příspěvek přináší pohled na ionizační zóny tzv. „spokes“ v argon dusíkové atmosféře s použitím titanového terče. Cílem bylo popsat nejen globální parametry ionizačních zón, jako je jejich tvar, délka a rychlost šíření, ale také poskytnout popis parametrů vyvíjejících se v průběhu ionizační zóny, jako je plovoucí potenciál a emise plazmatu ve viditelné oblasti spektra. Měření posledně jmenovaného jasně ukázalo, které částic emitují nejvýrazněji a jak se jejich emise mění při přechodu od argonového výboje k výboji hořícím v čistém dusíku.

Plasma Sources Science and Technology 31 (2022) 055010

P. Souček, J. Hnilica, P. Klein, M. Fekete, P. Vašina

Microstructure of titanium coatings controlled by pulse sequence in multipulse HiPIMS

V tomto článku byl k depozici kovových titanových tenkých vrstev použit standardní jednopulsní HiPIMS (s-HiPIMS), multipulsní HiPIMS (m-HiPIMS) a stejnosměrné magnetronové naprašování. Různý počet pulzů v jedné sekvenci pulzů při m-HiPIMS umožňoval ovlivnit toky iontů na substrátu a ionizaci rozprašovaného titanu. Použitím m-HiPIMS bylo možné dosáhnout povlaků s hladší povrchovou morfologií a nižší drsností. Počet pulzů také významně ovlivňoval texturu a rychlost depozice.

Surface and Coatings Technology 423 (2021) 127624

​​



Počet publikací: 4

Články

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info